Project Description
Descripción
Es un sistema de nano litografía que puede ser usado para aplicaciones como MEMS, microfluídicos o cualquier otra que requiera alta precisión y resolución en microestructuras.
Características
| Sustratos de hasta 6″ x 6″. |
| Estructuras de hasta 0,6 μm. |
| Red de direcciones hasta 20 nm. |
| Modo de exposición básico de escala de grises. |
| Sistema de enfoque automático en tiempo real. |
| Fuente de láser de diodo estándar o UV. |
| Vector y modo de exposición raster. |
| Modos de escritura intercambiables. |
| Sistema de cámara para la alineación. |
| Múltiples formatos de entrada de datos. |