Fotolitógrafo de escritura directa (Heidelberg μPG 101)

Fotolitógrafo de escritura directa (Heidelberg μPG 101) 2017-04-24T13:21:50+00:00

Project Description

Descripción

Es un sistema de nano litografía que puede ser usado para aplicaciones como MEMS, microfluídicos o cualquier otra que requiera alta precisión y resolución en microestructuras.

Características

Sustratos de hasta 6″ x 6″.
Estructuras de hasta 0,6 μm.
Red de direcciones hasta 20 nm.
Modo de exposición básico de escala de grises.
Sistema de enfoque automático en tiempo real.
Fuente de láser de diodo estándar o UV.
Vector y modo de exposición raster.
Modos de escritura intercambiables.
Sistema de cámara para la alineación.
Múltiples formatos de entrada de datos.